Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
БиблиографияИонно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии [Электронный ресурс] / Берлин Е.В., Сейдман Л.А. - М. : Техносфера, 2010. Режим доступа: http://proto.rosmedlib.ru/book/ISBN9785948362229.html
АвторыБерлин Е.В., Сейдман Л.А.
ИздательствоТехносфера
Год издания2010
ПрототипЭлектронное издание на основе: Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии. - Москва: Техносфера, 2010. - 528 c., 16с. цв. вклейки - ISBN 978-5-94836-222-9.
АннотацияНастоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. <br>Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Загружено 2018-12-30 03:18:11